POCL3 或 BBR3 液态源扩散


在这些工艺中,氮气携带液态源进入工艺炉管内,在炉管内和氧气反应生产硼化玻璃或磷化玻. 从而将杂质扩散到硅片内.

  • 表面电阻: 1-100 Ω/□
  • 批产能: 18英寸恒温区产能100片;34英寸恒温区产能200片
  • 气体: NITROGEN, OXYGEN
  • 均匀性指标: < 10%


常压化学气相沉积工艺