退火
退火一般用于如掺杂扩散/活化，氧化/玻璃致密化，修复因离子注入导致晶体的晶格破坏，硅化物的形成，硼化玻璃或磷化玻璃均匀回流以及形成平坦的表面，和消除薄膜应力。退火工艺的运行通常是通入常压下的氮气，氩气或混合气体（混有氢气的氮气)的一种气体. 混合气体中的氢气可以钝化衬底表面和抵消载流子的捕获.
- 批产能: 18英寸恒温区产能100片；34英寸恒温区产能200片
- 工艺气体: Nitrogen, forming gas (N2 / H2), Argon
- 工艺温度: 400 - 1100 °C
- 工艺时长: 1 - 180 minutes
应用范围: 消除压力、氧化/玻璃致密化,玻璃回流平坦化,掺杂扩散/活化、钝化
