常压化学气相沉积工艺

TYTAN 炉系统可以用于半导体行业各种常规的常压工艺。工艺可以在1150℃以上使用，要求使用厚壁的石英炉管，碳化硅管衬，碳化硅舟和碳化硅悬臂杆。