客户定制
研究和开发、半导体和固态器件的中试线和大批量生产都与关键工艺设备有着密切的联系。 若要进行大规模的硅芯片制造，对高性能、高品质反应器样机的需求以及客户设计和研发定制设备都非常重要。 Tystar公司的专家团队在半导体工艺设备、电子控制系统、真空技术和固态源工艺设计和制造方面具有多年的经验。 Tystar公司在整合常压及真空元件减压的工艺反应器、气体控制系统、热源、激光和UV光源、RF和微波源以及电子加工控制器方面有很多经验和专业技术。Tystar公司可以按照客户设计进行相关设备定制。
对于定制设备，同样需要经过制造、装配和测试等流程。 设备装配是在Tystar公司净化间中进行的装配，这样能够最大限度保证优于10级净化操作空间，减少颗粒产生。 Tystar公司对于以下领域的特殊反应器有着丰富经验:
- 热反应器，包括高温和低温环境热壁式加热器、快速加热热源和快速响应低热量加热器
- 常压和低压环境CVD反应器
- CVD外延反应器、介质、非晶态和金属层沉积CVD反应器
- 等离子体激发反应气体、UV射线（激光或放电灯）和电子回旋共振（ECR））CVD 反应器
- 电子回旋共振（ECR）
- 特殊真空镀膜设备适用于热壁，电子束和溅射源
适用于这些反应器的特殊子系统设计包括:
- 热反应器，包括高温和低温环境热壁式加热器、快速加热热源和快速响应低热量加热器
- 常压和低压环境CVD反应器
- CVD外延反应器、介质、非晶态和金属层沉积CVD反应器
- 等离子体激发反应气体、UV射线（激光或放电灯）和电子回旋共振（ECR））CVD 反应器
- 电子回旋共振（ECR）
- 特殊真空镀膜设备适用于热壁，电子束和溅射源
