光纤预制棒CVD反应器

Tystar公司自1988年开始研究制造光纤预制棒化学气相沉积设备. Tystar公司改进了GDS-2001 MCVD系统以提升设备产能和可靠性. GDS-2001 MCVD系统已经完成了相关升级改造.

GDS-2001 MCVD反应器可通过改进型化学气相沉积工艺（MCVD）进行单模和多模光纤的制造. GDS-2001气体输送系统结构紧凑, 并且占地空间小（大约950mm宽和800mm深）. GDS-2001气体输送系统是专为单模和多模光纤所设计的, 并提供了SiCl₄ 和 GeCl₄ 高动态范围的蒸汽流量. 气流量控制的精确度可达2% , 并且它达到了< 0.5% 的重复率, 可满足连续操作超过8小时的高压气体和液体稳定性.