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更新+系统升级

半导体扩散炉和化学气相沉积设备使用多年后,其性能会大大降低。

Tystar 公司在半导体设备的设计和制造上有很多专业技术,通过更新和升级您现有工艺设备方面,能够满足工艺控制、稳定性和自动化、增大硅片大小等更高的要求。Tystar公司能够提供多种子系统以大为提高您现有设备的性能和效率,比购买新的设备的费用低得多。Tystar公司能够对所有主要制造商的标准型号的扩散和CVD设备进行更新。通常更新的系统包括:

  • 更大硅片尺寸的升级
  • 主机界面高级工艺和温度控制器。
  • 气体分布和控制系统具有良好的稳定性、重复性、自动化以及高的泄漏完整性
  • CVD系统的闭环压力控制
  • 液体源蒸发器控制器,有毒/有害气体稀释和处理系统

1988年Tystar 公司进入修复和翻新半导体制造设备的市场时,就侧重于扩散和氧化系统以及低压CVD反应器。翻新的设备为半导体制造商和实验室的新设备的投资提供了高性价比的选择。之前所拥有的半导体设备可以通过翻新来满足顾客对所提高性能的需求,而翻新的价钱仅为新设备的一小部分。

半导体和固态器件研发所需的中试线以及大批量生产都与关键工艺设备有着密切的联系. 若要进行大规模的硅芯片制造,客户定制或研发设备对高性能,高质量反应器样机的要求将非常严格. Tystar 公司的专家团队在半导体工艺设备,电子控制系统,真空技术和固态源工艺设计和制造方面具有多年的经验. Tystar 公司在整合常压及真空元件减压的工艺反应器、气体控制系统、热源、激光、UV光源、RF和微波源以及电子加工控制器方面有很多经验和专业技术. Tystar 公司可以按照客户设计提供相应的设备.

半导体扩散/氧化炉和CVD设备已经使用多年后使用性能会大打折扣。Tystar公司富有经验的团队能够更新并升级您现有的工艺设备,以满足工艺控制、稳定性、自动化及增大硅片尺寸等方面更高的要求。Tystar公司能够提供多种子系统以增强您现有设备的使用性能和效率。Tystar公司能够对大部分设备供应商的的扩散/氧化及CVD设备进行升级更新。对您的特殊用途,请联系我们进行讨论。