通过改进型CVD制备光纤预制棒

改进型化学气相沉积 (MCVD)

生产光纤需要很多个步骤,其中改进型化学气相沉积是第一个步骤,用于火焰加热和化学气相沉积。在改进型化学气相沉积工艺中,改进的气相一般是由盛放在鼓泡器中的SiCl4 和GeCl4 和其他混合气体。氧气是鼓泡携带气体。气体通过鼓泡器进入到二氧化硅或有旋转台的石英管内。当旋转台旋转,火焰会沿着炉管上下旋转进行加热。气体反应后沉积物(二氧化硅)和二氧化锗(GeO2)融合在一起附在炉管的内表面上。

FVD 2000使用的气体质量流量控制器可以控制如氢气、氧气、氦气和氯气,以及气态的SiCl4和GeCl4。温度能够通过控制氢气火焰来控制二氧化硅薄膜的沉积和补充液体源再回流系统。这类设备通常是根据客户需求定制的,所以我们期望您能跟我们联系来获取更多信息。

更多改进型化学气相沉积系统的资料,请联系 7050 Lampson Avenue Garden Grove, CA 92841 | Tel: (310) 781-9219 or write to SALES@TYSTAR.COM