光电炉系统

FVD 2000 CVD反应器可用于通过改进化学气相沉积工艺(MCVD)而进行单一模式和多模式光纤的制造。FVD2000气体输送系统是紧凑的,并且不占据很大的空间(大约950mm宽和800mm深)。FVD2000气体输送系统是为单模式和多模式光纤所设计的,并提供了SiCl4 和 GeCl4 高动态范围的蒸汽流量。气流量控制的精确度在2%并且达到了<0.5% 的重复率。可满足连续操作超过8小时的高压气体和液体稳定性。

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