常压化学气相沉积工艺

TYTAN 炉系统可以用于半导体行业各种常规的常压工艺。工艺可以在1150℃以上使用,要求使用厚壁的石英炉管,碳化硅管衬,碳化硅舟和碳化硅悬臂杆。

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► 氧化工艺

► 固态源扩散

► POCl3 或 BBr3 液态源扩散

►退火

► 通过常压化学气相沉积法制备纳米材料